ME SIL2 Mercury Filled Output 4-20mA
āđāļāļāđāļāļāļĢāđāļ§āļąāļāđāļĢāļāļāļąāļāļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļāļļāļāļŦāļ āļđāļĄāļīāļŠāļđāļ āļĢāļļāđāļ ME SIL2 āļāļēāļ Gefran āđāļāđāļĢāļąāļāļāļēāļĢāļāļāļāđāļāļāļĄāļēāđāļāļ·āđāļāđāļāđāļāļēāļāđāļāļŠāļ āļēāļāđāļ§āļāļĨāđāļāļĄāļāļĩāđāļĄāļĩāļāļļāļāļŦāļ āļđāļĄāļīāļŠāļđāļāļāļķāļ 400°C āđāļāļĒāđāļāđāļĢāļ°āļāļāļŠāđāļāđāļĢāļāļāļąāļāđāļāļāđāļŪāļāļĢāļāļĨāļīāļāļāđāļēāļāļāļāļāđāļŦāļĨāļ§ Mercury āđāļāļ·āđāļāļāļ§āļēāļĄāđāļŠāļāļĩāļĒāļĢāļāļāļāļāļēāļĢāļ§āļąāļ
āļāļļāļāļŠāļĄāļāļąāļāļīāđāļāđāļ
- āļāđāļ§āļāđāļĢāļāļāļąāļ: 0-17 āļāļķāļ 0-2000 bar / 0-250 āļāļķāļ 0-30000 psi
- āļāļ§āļēāļĄāđāļĄāđāļāļĒāļģ:
- āļĢāļļāđāļ H: < Âą0.25% FS
- āļĢāļļāđāļ M: < Âą0.5% FS
- āļĢāļ°āļāļāļŠāđāļāđāļĢāļāļāļąāļāļāđāļ§āļĒāļāļāļāđāļŦāļĨāļ§ Mercury āđāļāļ·āđāļāļāļ§āļēāļĄāđāļŠāļāļĩāļĒāļĢāļāļāļāļāļļāļāļŦāļ āļđāļĄāļī
- āļŠāļąāļāļāļēāļāđāļāļēāļāđāļāļļāļāđāļāļ 420mA āļĢāļāļāļĢāļąāļāļāļēāļĢāđāļāļ·āđāļāļĄāļāđāļāļāļąāļāļĢāļ°āļāļāļāļ§āļāļāļļāļĄāļāļļāļāļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄ
- āļāđāļēāļāļāļēāļĢāļĢāļąāļāļĢāļāļ SIL2 āđāļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļĢāļ°āļāļāļāļĩāđāļāđāļāļāļāļēāļĢāļāļ§āļēāļĄāļāļĨāļāļāļ āļąāļĒāļŠāļđāļ āđāļāđāļ āļāļēāļĢāļāļĨāļīāļāđāļāļĨāļīāđāļĄāļāļĢāđāđāļĨāļ°āđāļāļĄāļĩāļ āļąāļāļāđ
āđāļāļāđāļāđāļĨāļĒāļĩāđāļĨāļ°āļāļ§āļēāļĄāļāļĨāļāļāļ āļąāļĒ
āđāļāđāđāļāļāđāļāđāļĨāļĒāļĩ Thick Film Strain-Gauge āđāļāļāļēāļĢāđāļāļĨāļāđāļĢāļāļāļąāļāđāļāđāļāļŠāļąāļāļāļēāļāđāļāļāđāļē āļāļĢāđāļāļĄāđāļāļĢāļāļŠāļĢāđāļēāļāļāļĩāđāļāļāļāļēāļāļāđāļāļāļ§āļēāļĄāļĢāđāļāļāđāļĨāļ°āđāļĢāļāļāļąāļāļŠāļđāļ
āļāļēāļĢāļĢāļąāļāļĢāļāļ SIL2 āļāļģāđāļŦāđāđāļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļāļēāļĢāđāļāđāļāļēāļāđāļāļĢāļ°āļāļāļāļ§āļāļāļļāļĄāļāļĩāđāļāđāļāļāļāļēāļĢāļāļ§āļēāļĄāļāđāļēāđāļāļ·āđāļāļāļ·āļāđāļĨāļ°āļāļ§āļēāļĄāļāļĨāļāļāļ āļąāļĒāļĢāļ°āļāļąāļāļŠāļđāļ
āļāļēāļĢāđāļāđāļāļēāļāļāļĩāđāđāļāļ°āļāļģ
āđāļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāđāļāļĢāļ·āđāļāļāļāļąāļāļĢāļĩāļāļāļĨāļēāļŠāļāļīāļ, āļāļēāļĢāļāļĨāļīāļāđāļāļĨāļīāđāļĄāļāļĢāđāđāļāļĢāļāļāļļāļāļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄ, āđāļĨāļ°āļĢāļ°āļāļāļāļ§āļāļāļļāļĄāđāļĢāļāļāļąāļāđāļāđāļĢāļāļāļēāļāļāļĩāđāļĄāļĩāļāļ§āļēāļĄāđāļŠāļĩāđāļĒāļāļŠāļđāļ
āđāļāļāđāļāļāļĢāđāļ§āļąāļāđāļĢāļāļāļąāļāļāļļāļāļŦāļ āļđāļĄāļīāļŠāļđāļ KE SIL2 NaK Sodium Potassium
āļŠāļąāļāļāļēāļāđāļāļēāļāđāļāļļāļ: 420mA | āļĄāļēāļāļĢāļāļēāļāļāļ§āļēāļĄāļāļĨāļāļāļ āļąāļĒ: SIL2
āļāļļāļāļŠāļĄāļāļąāļāļīāđāļāđāļ
- āļāđāļ§āļāđāļĢāļāļāļąāļ: 0-35 āļāļķāļ 0-1000 bar / 0-500 āļāļķāļ 0-15000 psi
- āļāļ§āļēāļĄāđāļĄāđāļāļĒāļģāļŠāļđāļ: < Âą0.25% FS (āļĢāļļāđāļ H), < Âą0.5% FS (āļĢāļļāđāļ M)
- āļĢāļ°āļāļāļŠāđāļāđāļĢāļāļāļąāļāđāļāļāđāļŪāļāļĢāļāļĨāļīāļāļāđāļ§āļĒāļāļāļāđāļŦāļĨāļ§ NaK (Sodium Potassium) āļāļĩāđāļĄāļĩāļāļ§āļēāļĄāđāļŠāļāļĩāļĒāļĢāļŠāļđāļāđāļĄāđāđāļāļāļļāļāļŦāļ āļđāļĄāļīāļāļēāļĢāļāļģāļāļēāļāļāļĩāđāļĢāļļāļāđāļĢāļ
- āļāļāļāđāļŦāļĨāļ§āļ āļēāļĒāđāļ āđāļāđāļāđāļāļāļēāļĄāļāđāļāļāļģāļŦāļāļ RoHS āļāļĨāļāļāļ āļąāļĒāļāđāļāļŠāļīāđāļāđāļ§āļāļĨāđāļāļĄ
- āđāļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļāļĢāļ°āļāļ§āļāļāļēāļĢāļāļĨāļīāļāđāļāļĨāļīāđāļĄāļāļĢāđāđāļĨāļ°āļāļēāļāļāļļāļāļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄāļāļĩāđāļāđāļāļāļāļēāļĢāļāļ§āļēāļĄāļāļĨāļāļāļ āļąāļĒāļĢāļ°āļāļąāļāļŠāļđāļ
āļāļļāļāđāļāđāļāļāļēāļāđāļāļāļāļīāļ
KE SIL2 āđāļāđāđāļāļāđāļāđāļĨāļĒāļĩ Thick Film Extensimetric āđāļāļāļēāļĢāđāļāļĨāļāđāļĢāļāļāļąāļāđāļāđāļāļŠāļąāļāļāļēāļāđāļāļāđāļēāđāļāļ 420mA āđāļŦāđāļāļ§āļēāļĄāđāļĄāđāļāļĒāļģāđāļĨāļ°āļāļ§āļēāļĄāđāļŠāļāļĩāļĒāļĢāđāļāļŠāļ āļēāļāđāļ§āļāļĨāđāļāļĄāļāļĩāđāļĄāļĩāļāļļāļāļŦāļ āļđāļĄāļīāļŠāļđāļāļāļķāļ 538°C (1000°F)
āļāļģāđāļĄāļāđāļāļāđāļĨāļ·āļāļ KE SIL2?
- āļāđāļēāļāļāļēāļĢāļĢāļąāļāļĢāļāļāļĄāļēāļāļĢāļāļēāļ SIL2 āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļāļēāļĢāđāļāđāļāļēāļāđāļāļĢāļ°āļāļāļāļĩāđāļāđāļāļāļāļēāļĢāļāļ§āļēāļĄāļāļĨāļāļāļ āļąāļĒāļŠāļđāļ
- āđāļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļāļēāļ Extrusion, āļāļēāļĢāļāļĨāļīāļāļāļĨāļēāļŠāļāļīāļāļ§āļīāļĻāļ§āļāļĢāļĢāļĄ āđāļĨāļ°āļāļĢāļ°āļāļ§āļāļāļēāļĢāļāļĩāđāļĄāļĩāļāļ§āļēāļĄāļĢāđāļāļāļŠāļđāļ
- āļĢāļāļāļĢāļąāļāļāļēāļĢāđāļāđāļāļēāļāđāļāļĢāļ°āļāļāļāļ§āļāļāļļāļĄāļāļļāļāļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄāļāļąāđāļ§āđāļāļāđāļ§āļĒāļŠāļąāļāļāļēāļ 420mA
KE SIL2 āļāļ·āļāļāļēāļāđāļĨāļ·āļāļāļāļĩāđāļĄāļąāđāļāđāļāđāļāđāļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļāļđāđāļāļĢāļ°āļāļāļāļāļēāļĢāļāļĩāđāļāđāļāļāļāļēāļĢāđāļāļāđāļāļāļĢāđāļ§āļąāļāđāļĢāļāļāļąāļāļāļĩāđāđāļĄāđāļāļĒāļģ āļāļāļāļēāļ āđāļĨāļ°āļāļĨāļāļāļ āļąāļĒāđāļāļāļļāļāļŠāļ āļēāļ§āļ°āļāļēāļĢāļāļĨāļīāļ
āđāļāļāđāļāļāļĢāđāļ§āļąāļāđāļĢāļāļāļąāļāļāļļāļāļŦāļ āļđāļĄāļīāļŠāļđāļ IE PLc IMPACT Fluid Free
āļŠāļąāļāļāļēāļāđāļāļēāļāđāļāļļāļ: 420mA | āļĄāļēāļāļĢāļāļēāļāļāļ§āļēāļĄāļāļĨāļāļāļ āļąāļĒ: Performance Level C
āļāļļāļāļŠāļĄāļāļąāļāļīāđāļāđāļ
- āļāđāļ§āļāđāļĢāļāļāļąāļ: 0-10 āļāļķāļ 0-1000 bar / 0-150 āļāļķāļ 0-15000 psi
- āļāļ§āļēāļĄāđāļĄāđāļāļĒāļģāļŠāļđāļ: < Âą0.25% FS (āļĢāļļāđāļ H), < Âą0.5% FS (āļĢāļļāđāļ M)
- āļāļāļāđāļāļ āđāļĢāđāļāļāļāđāļŦāļĨāļ§āļ āļēāļĒāđāļ (Fluid Free) āđāļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļāļēāļāļāļĩāđāļāđāļāļāļāļēāļĢāļāļ§āļēāļĄāļāļĨāļāļāļ āļąāļĒāļŠāļđāļ āđāļāđāļ āļāļļāļāļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄāļāļēāļŦāļēāļĢāđāļĨāļ°āļāļēāļĢāđāļāļāļĒāđ
- āļāļāļāđāļāđāļĢāļāļāļąāļāđāļāļāđāļāļāļēāļĄāļīāļāđāļĨāļ°āļāļēāļĢāđāļāđāļāļēāļāļāđāļģāļŦāļĨāļēāļĒāļāļĢāļąāđāļ āđāļāđāļ āļāļēāļĢāļāļīāļāļāļąāđāļāđāļŦāļĄāđāļŦāļĢāļ·āļāļāļēāļĢāđāļĢāļīāđāļĄāļĢāļ°āļāļāđāļāļāđāļĒāđāļ
- āđāļĒāļ·āđāļāļŠāļąāļĄāļāļąāļŠāļāļĢāļ°āļāļ§āļāļāļēāļĢāļāļĨāļīāļāļĄāļĩāļāļ§āļēāļĄāļŦāļāļēāļĄāļēāļāļāļ§āđāļēāļĢāļļāđāļāļāļąāđāļ§āđāļāļāļķāļ 15 āđāļāđāļē āđāļŦāđāļāļ§āļēāļĄāđāļāđāļāđāļĢāļāđāļĨāļ°āļāļēāļĒāļļāļāļēāļĢāđāļāđāļāļēāļāļĒāļēāļ§āļāļēāļ
- āļāđāļēāļāļ§āļēāļĄāļāļĨāļēāļāđāļāļĨāļ·āđāļāļāļāļāļāļŠāļąāļāļāļēāļ Zero āđāļĨāļ° Span āļāđāļģāļĄāļēāļ: <1% FS āđāļāļāđāļ§āļāļāļļāļāļŦāļ āļđāļĄāļī 20°C āļāļķāļ 350°C
āđāļāļāđāļāđāļĨāļĒāļĩ IMPACT āļāļēāļ Gefran
āđāļāđāļŦāļĨāļąāļāļāļēāļĢ Piezoresistive MEMS āđāļāļĒāđāļĢāļāļāļąāļāļāļ°āļāļđāļāļŠāđāļāļāđāļēāļāđāļĒāļ·āđāļāļŦāļāļēāđāļāļĒāļąāļāđāļāļĢāļāļŠāļĢāđāļēāļāļāļīāļĨāļīāļāļāļāļāļāļēāļāļāļīāđāļ§āļāļĩāđāļĄāļĩāļāļ§āļēāļĄāđāļĄāđāļāļĒāļģāļŠāļđāļ āđāļŦāđāļŠāļąāļāļāļēāļāļāļĩāđāđāļŠāļāļĩāļĒāļĢāđāļĨāļ°āļāļāļāļēāļāļāđāļāļŠāļ āļēāļāđāļ§āļāļĨāđāļāļĄāļāļĩāđāļĢāļļāļāđāļĢāļ
āđāļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļāļēāļĢāđāļāđāļāļēāļāđāļāļāļļāļāļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄ
- āļāļĢāļ°āļāļ§āļāļāļēāļĢāļāļĨāļīāļāļāļĩāđāļāđāļāļāļāļēāļĢ āļāļĨāļāļāļŠāļēāļĢāļāļĢāļāļ āđāļāđāļ āļāļļāļāļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄāļāļēāļŦāļēāļĢāđāļĨāļ°āļāļēāļĢāđāļāļāļĒāđ
- āļāļēāļĢāļāļĨāļīāļāđāļāļĨāļīāđāļĄāļāļĢāđāļāļĩāđāļĄāļĩāļŠāļēāļĢāđāļāļīāļĄāđāļāđāļāļŦāļĢāļ·āļāļāļĪāļāļīāļāļĢāļĢāļĄāļāļąāļāļāļĢāđāļāļ
- āļĢāļ°āļāļāļāļĩāđāļāđāļāļāļāļēāļĢāļāļ§āļēāļĄāđāļĄāđāļāļĒāļģāđāļĨāļ°āļāļ§āļēāļĄāđāļŠāļāļĩāļĒāļĢāđāļāļĢāļ°āļĒāļ°āļĒāļēāļ§
IE PLc āļāļ·āļāļāļēāļāđāļĨāļ·āļāļāļāļĩāđāļāļĨāļāļāļ āļąāļĒāđāļĨāļ°āļāļąāļāļŠāļĄāļąāļĒāļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļāļđāđāļāļĢāļ°āļāļāļāļāļēāļĢāļāļĩāđāļāđāļāļāļāļēāļĢāđāļāļāđāļāļāļĢāđāļ§āļąāļāđāļĢāļāļāļąāļāđāļāļāđāļĢāđāļāļāļāđāļŦāļĨāļ§ āđāļŦāđāļāļ§āļēāļĄāđāļĄāđāļāļĒāļģāļŠāļđāļ āļāļāļāļēāļ āđāļĨāļ°āđāļŦāļĄāļēāļ°āļāļąāļāļāļĢāļ°āļāļ§āļāļāļēāļĢāļāļĨāļīāļāļāļĩāđāļāđāļāļāļāļēāļĢāļĄāļēāļāļĢāļāļēāļāļŠāļđāļāļŠāļļāļ
WE SIL2 āđāļāļāđāļāļāļĢāđāļ§āļąāļāđāļĢāļāļāļąāļāđāļāļāļāđāļģāļĄāļąāļ Diathermic āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļāļļāļāļŦāļ āļđāļĄāļīāļŠāļđāļ
āļŠāļąāļāļāļēāļāđāļāļēāļāđāļāļļāļ: 420mA | āļĄāļēāļāļĢāļāļēāļāļāļ§āļēāļĄāļāļĨāļāļāļ āļąāļĒ: SIL2
- āļāđāļ§āļāđāļĢāļāļāļąāļ: 035 āļāļķāļ 01000 bar / 0500 āļāļķāļ 015000 psi
- āļāļ§āļēāļĄāđāļĄāđāļāļĒāļģ: < Âą0.25% FS (āļĢāļļāđāļ H) | < Âą0.5% FS (āļĢāļļāđāļ M)
- āļĢāļ°āļāļāđāļŪāļāļĢāļāļĨāļīāļāđāļāļāđāļāļīāļĄāļāđāļģāļĄāļąāļ Diathermic: āļāđāļ§āļĒāļĢāļąāļāļĐāļēāđāļŠāļāļĩāļĒāļĢāļ āļēāļāļāļāļāļŠāļąāļāļāļēāļāđāļĄāđāđāļāļŠāļ āļēāļ§āļ°āļāļļāļāļŦāļ āļđāļĄāļīāļŠāļđāļ
- āļāļāļāļļāļāļŦāļ āļđāļĄāļīāđāļāđāļŠāļđāļāļāļķāļ: 315°C āđāļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļāļēāļāļāļĨāļēāļŠāļāļīāļāđāļĨāļ°āđāļāļĨāļīāđāļĄāļāļĢāđ
- āđāļāļāđāļāđāļĨāļĒāļĩ: Thick-film strain gauge āđāļāļĨāļāđāļĢāļāļāļąāļāđāļāđāļāļŠāļąāļāļāļēāļāđāļāļāđāļēāļāļĒāđāļēāļāđāļĄāđāļāļĒāļģ
- āļāđāļēāļāļāļēāļĢāļĢāļąāļāļĢāļāļ SIL2: āđāļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļĢāļ°āļāļāļāļĩāđāļāđāļāļāļāļēāļĢāļāļ§āļēāļĄāļāļĨāļāļāļ āļąāļĒāļŠāļđāļ āđāļāđāļ āđāļĢāļāļāļēāļāļāļĨāļīāļāđāļāļĨāļīāđāļĄāļāļĢāđ
WE SIL2 āļāļ·āļāļāļēāļāđāļĨāļ·āļāļāļāļĩāđāļĄāļąāđāļāđāļāđāļāđāļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļāļēāļāļ§āļąāļāđāļĢāļāļāļąāļāđāļāļŠāļ āļēāļ§āļ°āļāļļāļāļŦāļ āļđāļĄāļīāļŠāļđāļ āļāđāļ§āļĒāļĢāļ°āļāļāđāļŪāļāļĢāļāļĨāļīāļāđāļāļāđāļāļīāļĄāļāđāļģāļĄāļąāļāļāļĩāđāđāļŦāđāļāļ§āļēāļĄāđāļŠāļāļĩāļĒāļĢ āļāļĢāđāļāļĄāļāļ§āļēāļĄāđāļĄāđāļāļĒāļģāļĢāļ°āļāļąāļāļāļļāļāļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄ āđāļĨāļ°āļāļēāļĢāļĢāļąāļāļĢāļāļāļāđāļēāļāļāļ§āļēāļĄāļāļĨāļāļāļ āļąāļĒ SIL2 āļāļĩāđāļāļāļāđāļāļāļĒāđāđāļĢāļāļāļēāļāļāļĩāđāļāđāļāļāļāļēāļĢāļāļ§āļēāļĄāļāđāļēāđāļāļ·āđāļāļāļ·āļāļŠāļđāļāļŠāļļāļ
āđāļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļ: āđāļĢāļāļāļēāļāļāļĨāļēāļŠāļāļīāļ, āļĢāļ°āļāļāļāļ§āļāļāļļāļĄāļāļĢāļ°āļāļ§āļāļāļēāļĢ, āđāļāļĢāļ·āđāļāļāļāļąāļāļĢāļāļļāļāļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄāļāļĩāđāļĄāļĩāļāļļāļāļŦāļ āļđāļĄāļīāļŠāļđāļ
āļāļđāļĢāļēāļĒāļĨāļ°āđāļāļĩāļĒāļāđāļāļīāđāļĄāđāļāļīāļĄāđāļāđāļāļēāļāđāļ§āļ GEFRAN